【摘要】： 隨著Ⅲ族氮化物半導(dǎo)體材料研究的發(fā)展,Ⅲ族氮化物的圖形刻蝕技術(shù)也得到了廣泛研究。對Ⅲ族氮化物的各種刻蝕技術(shù)進(jìn)行了詳細(xì)總結(jié)和對比,包括濕法腐蝕、RIE刻蝕I、CP刻蝕等,并對目前Ⅲ族氮化物刻蝕技術(shù)的研究熱點(diǎn)進(jìn)行了較為深刻的分析。