基于核心專利分析對(duì)技術(shù)創(chuàng)新應(yīng)用發(fā)展的研究
【摘要】：
專利制度的發(fā)展使其作用不僅涉及法律、經(jīng)濟(jì)、科學(xué)技術(shù)等方面,而且可對(duì)企業(yè)的技術(shù)創(chuàng)新提供有益的啟示。本文提出一種專利分析方法——延伸分析法及其模型,圍繞核心專利進(jìn)行分類延伸分析,并結(jié)合引文分析方法,描述了技術(shù)的現(xiàn)狀與可拓展的技術(shù)方向,并以納米壓印技術(shù)為例...
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